江苏华净净化科技有限公司
服务热线:18012175057
Banner
首页 > 新闻动态 > 内容

生物实验无尘室日常管理办法

编辑:江苏华净净化科技有限公司时间:2019-04-29

   洁净实验无尘室主要是通过人为的手段,应用洁净技术实现控制室内空气中尘埃、含菌浓度、温湿度与压力、以达到所要求的洁净度、温湿度和气流速度等环境参数。产品的质量是一个企业的生命线,在许多企业尤其是电子企业和生物医药企业中,影响产品质量的一个重要因素就是无尘室的洁净度。华净分享如何做好无尘室的管理工作保证无尘室的洁净度?

一、进入无尘室须知

1.进入无尘室前,必须知会管理人,并通过基本训练。

2.进入无尘室严禁吸烟,吃(饮)食,外来杂物(如报章,杂志,铅笔...等)不可携入,并严禁嘻闹奔跑及团聚谈天。

3.进入无尘室前,需在规定之处所脱鞋,将鞋置于鞋柜内,外衣置于衣柜内,私人物品置于私人柜内,柜内不可放置食物。

4.进入无尘室须先在更衣室,将口罩,无尘帽,无尘衣以及鞋套按规定依程序穿戴整齐,再经空气洗尘室洗尘,并踩踏除尘地毯(洗尘室地板上)方得进入。

5.戴口罩时,应将口罩戴在鼻子之上,以将口鼻孔盖住为原则,以免呼吸时污染芯片。

6.穿著无尘衣,无尘帽前应先整理服装以及头发,以免着上无尘衣后,不得整理又感不适。

7.整肃仪容后,先戴无尘帽,无尘帽的穿戴原则系:

(1)头发必须完全覆盖在帽内,不得外露。

(2)无尘帽之下摆要平散于两肩之上,穿上工作衣后,方不致下摆脱出,裸露肩颈部。

8.无尘帽戴妥后,再着无尘衣,无尘衣应尺吋合宜,才不致有裤管或衣袖太短而裸露皮肤之虞,穿衣时应注意帽之下摆应保平整之状态,无尘衣不可反穿。

9.穿著无尘衣后,才着鞋套,拉上鞋套并将鞋套整平,确实盖在裤管之上。

10.戴手套时应避免以光手碰触手套之手掌及指尖处(防止钠离子污染),戴上手套后,应将手套之手腕置于衣袖内,以隔绝污染源。

11.无尘衣着妥后,经洗尘,并踩踏除尘毯,方得进入无尘室。

12.不论进入或离开无尘室,须按规定在更衣室脱无尘衣,不可在其它区域为之,尤不可在无尘室内边走边脱。

13.无尘衣,鞋套等,应定期清洗,有破损,脱线时,应即换新。

14.脱下无尘衣时,其顺序与穿著时相反。

15.脱下之无尘衣应吊好,并放于更衣室内上层柜子中;鞋套应放置于吊好的无尘衣下方。

16.更衣室内小柜中,除了放置无尘衣等规定物品外,不得放置其它物品。

17.除规定纸张及物品外,其它物品一概不得携入无尘室。

18.无尘衣等不得携出无尘室,用毕放置于规定处所。

19.口罩与手套可视状况自行保管或重复使用。

20.任何东西进入无尘室,必须用洒精擦拭干净。

21.任何设备的进入,请知会管理人,在无尘室外擦拭干净,方可进入。

22.未通过考核之仪器,禁止使用,若遇紧急情况,得依紧急处理步骤作适当处理,例如关闭水、电、气体等开关。

23.无尘室内绝对不可动火,以免发生意外。

二、无尘室操作须知

1.处理芯片时,必须戴上无纤维手套,使用清洗过的干净镊子挟持芯片,请勿以手指或其它任何东西接触芯片,遭碰触污染过的芯片须经清洗,方得继续使用:

(1)任何一支镊子前端(即挟持芯片端)如被碰触过,或是镊子掉落地上,必须拿去清洗请勿用纸巾或布擦拭脏镊子。

(2)芯片清洗后进行下一程序前,若被手指碰触过,必须重新清洗。

(3)把芯片放置于石英舟上,准备进炉管时,若发现所用镊子有污损现象或芯片上有显眼由镊子所引起的污染,必须将芯片重新清洗,并立即更换干净的镊子使用。

2.芯片必须放置盒中,盖起来存放于规定位置,尽可能不让它暴露。

3.避免在芯片上谈话,以防止唾液溅于芯片上,在芯片进扩散炉前,请特别注意,防止上述动作产生,若芯片上沾有纤维屑时,用氮气枪喷之。

4.从铁弗龙(Teflon)晶舟,石英舟(Quartz Boat)等载具(Carrier)上,取出芯片时,必须垂直向上挟起,避免刮伤芯片,显微镜镜头确已离芯片,方可从吸座上移走芯片。

5.芯片上,若已长上氧化层,在送黄光室前切勿用钻石刀在芯片上刻记。

6.操作时,不论是否戴上手套,手绝不能放进清洗水槽。

7.使用化学站或烤箱处理芯片时,务必将芯片置放于铁弗龙晶舟内,不可使用塑料盒。

8.摆置芯片于石英舟时,若芯片掉落地上或手中则必须重新清洗芯片,然后再进氧化炉。

9.请勿触摸芯片盒内部,如被碰触或有碎芯片污染,必须重作清洗。

10. 手套,废纸及其它杂碎东西,请勿留置于操作台,手套若烧焦、磨破或纤维质变多必须换新。

11.非经指示,绝不可开启不熟悉的仪器及各种开关阀控制钮或把手。

12.奇怪的味道或反应异常的溶液,颜色,声响等请即通知相关人员。

13.仪器因操作错误而有任何损坏时,务必立刻告知负责人员或老师。

14.芯片盒进出无尘室须保持干净,并以保鲜膜封装,违者不得进入。

15.无尘室内一律使用原子笔及无尘笔记本做记录,一般纸张与铅笔不得携入。

三、黄光区操作须知

1.湿度及温度会影响对准工作,在黄光区应注意温度及湿度,并应减少对准机附近的人,以减少湿、温度的变化。

2.上妥光阻尚未曝光完成之芯片,不得携出黄光区以免感光。

3.己上妥光阻,而在等待对准曝光之芯片,应放置于不透明之蓝黑色晶盒之内, 盒盖必须盖妥。

4.光罩使用时应持取边缘,不得触及光罩面,任何状况之下,光罩铬膜不得与他物接触,以防刮伤,光罩之落尘可以氮气枪吹之。

5.曝光时,应避免用眼睛直视曝光机汞灯。

四、镊子使用须知

1.进入实验室后,应先戴上手套后,再取镊子,以免沾污。

2.唯有使用干净的镊子,才可持取芯片,镊子一旦掉在地上或被手触碰,或因其它原因而遭污染,必须拿去清洗,方可再使用。

3.镊子使用后,应放于各站规定处,不可任意放置,如有特殊制程用镊子,使用后应自行保管,不可和实验室内各站之镊子混合使用。

4.持镊子应采"握笔式"姿势挟取芯片。

5.挟取芯片时,顺序应由后向前挟取,放回芯片时,则由前向后放回,以免刮伤芯片表面。

6.挟取芯片时,"短边" (锯状头)置于芯片正面,"长边" (平头)置于芯片背面,挟芯片空白部分,不可伤及芯片。

7.严禁将镊子接触酸槽或D.I Water水槽中。

8.镊子仅可做为挟取芯片用,不准做其它用途。

五、化学药品使用须知

1.化学药品的进出须登记,并知会管理人,并附上物质安全资料表(MSDS)于实验室门口。

2.使用化学药品前,请详读物质安全资料表(MSDS),并告知管理人。

3.换酸前必先穿著防酸塑料裙,戴上防酸长袖手套,头戴护镜,脚着塑料防酸鞋,始可进行换酸工作。

4.不得任意打开酸瓶的盖子,使用后立即锁紧盖子。

5.稀释酸液时,千万记得加酸于水,绝不可加水于酸。

6.勿尝任何化学药品或以嗅觉来确定容器内之药品。

7.不明容器内为何种药品时,切勿摇动或倒置该容器。

8.所有化学药品之作业均须在通风良好或排气之处为之。

9.操作各项酸液时须详读各操作规范。

10.酸类可与碱类共同存于有抽风设备的储柜,但绝不可与有机溶剂存放在一起。

11.废酸请放入废酸桶,不可任意倾倒,更不可与有机溶液混合。

12.废弃有机溶液置放入有机废液桶内,不可任意倾倒或倒入废酸桶内。

13.勿任意更换容器内溶液。

14.欲自行携入之溶液请事先告知经许可后方可携入,如果欲自行携入之溶液具有危险性时,必须经评估后方可携入,并请于容器上清楚标明容器内容物及保存期限。

15.废液处理:废液分酸、碱、氢氟酸、有机、等,分开处理并登记,回收桶标示清楚,废液桶内含氢氟酸等酸碱,绝对不可用手触碰。

16.漏水或漏酸处理:漏水或漏酸时,为确保安全,绝对不可用手触碰,先将电源总开关与相关阀门关闭,再以无尘布或酸碱吸附器处理之,并报备管理人。

六、化学工作站操作

1.操作时须依规定,戴上橡皮手套及口罩。

2.不可将塑料盒放入酸槽或清洗槽中。

3.添加任何溶液前,务必事先确认容器内溶剂方可添加。

4.在化学工作站工作时应养成良好工作姿势,上身应避免前倾至化学槽及清洗槽之上方,一方面可防止危险发生,另一方面亦减少污染机会。

5.化学站不操作时,有盖者应随时将盖盖妥,清洗水槽之水开关关上。

6.化学药品溅到衣服、皮肤、脸部、眼睛时,应即用水冲洗溅伤部位15分钟以上,且必须皮肤颜色恢复正常为止,并立刻安排急救处理。

7.化学品外泄时应迅速反应,并做适当处理,若有需要撤离时应依指示撤离。

8.各化学工作站上使用之橡皮手套,避免触碰各机台及工作台,及其它器具等物,一般操作请戴无尘手套。


七、RCA Method

1.DI Water                   5min

2.H2SO4:H2O2=3:1             煮10~20min 75~85℃,去金属、有机、油

3.DI Water                   5min

4.HF:H2O                     10~30sec,去自然氧化层(Native Oxide)

5.DI Water                   5min

6.NH4OH:H2O2;H2O=1:1:5       煮10~20min 75~85℃,去金属有机

7.DI Water                   5min

8.HCl:H2O2:H2O=1:1:6         煮10~20min  75~85 ℃  去离子

9.DI Water                   5min

10.Spin Dry

八、清洗注意事项

1.有水则先倒水﹐H2O2最后倒﹐数字比为体积比。

2.有机与酸碱绝对不可混合﹐操作平台也务必分开使用。

3.酸碱溶液等冷却后倒入回收槽﹐并以DI Water冲玻璃杯5 min。

4.酸碱空瓶以水清洗后﹐并依塑料瓶﹐玻璃瓶分开置于室外回收筒。

5.氢氟酸会腐蚀骨头﹐若碰到立即用葡萄酸钙加水涂抹,再用清水冲洗干净,并就医。碰到其它酸碱则立即以DI Water大量冲洗。

6.清洗后之Wafer尽量放在DI Water中避免污染。

7.简易清洗步骤为1-2-9-10;清洗SiO2步骤为1-2-10;清洗Al以HCl:H2O=1:1。

8.去除正光阻步骤为1-2-10,或浸入ACE中以超音波振荡。

9.每个玻璃杯或槽都有特定要装的溶液﹐蚀刻、清洗、电镀、有机绝不能混合。

10.废液回收分酸、碱、氢氟酸、电镀、有机五种,分开回收并记录,倾倒前先检查废弃物兼容性表,确定无误再倾倒。

    保持无尘室的清洁是非常重要的。室外大气中的尘埃,借通风换气过程会进入实验室,实验内含尘量过高,空气不净,不但影响检测结果,而且还会造成其他问题出现。遵守生物实验无尘室日常管理办法并不是杜绝此类问题不会发生,而是减少无尘室的污染。


地址:江苏省连云港市海州区茗馨大厦H1楼  电话:18012175057  手机:18012175057  电子邮箱:373038022@qq.com

版权所有:江苏华净净化科技有限公司手机版

净化工程厂家-无尘车间工程施工-无尘净化车间安装设计-净化车间装修哪家好